光刻机是由美国物理学家西奥多·门曼于1955年发明的。至于中国光刻机与荷兰的差距，由于光刻机技术的高度复杂性和敏感性，荷兰在这一领域的研发和创新相对较早，并拥有一些国际知名的光刻机制造商。相比之下，中国在光刻机领域的发展相对滞后，技术水平和生产制造能力上存在一定差距。不过，近年来中国政府对半导体行业的投资加大，并积极引进国外先进技术，致力于弥补与发达国家在光刻机领域的差距。
光刻机是由美国物理学家西奥多·门曼于1955年发明的。门曼是贝尔实验室的研究员，他开发出一种利用光学投影原理将图案投射到硅片上的技术，从而创造了光刻机。
至于中国光刻机与荷兰的差距，由于光刻机技术的高度复杂性和敏感性，荷兰在这一领域的研发和创新相对较早，并拥有一些国际知名的光刻机制造商。相比之下，中国在光刻机领域的发展相对滞后，技术水平和生产制造能力上存在一定差距。不过，近年来中国政府对半导体行业的投资加大，并积极引进国外先进技术，致力于弥补与发达国家在光刻机领域的差距。